西門子數(shù)字化工業(yè)軟件近日為其集成電路 (IC) 物理驗(yàn)證平臺 —— Calibre® 擴(kuò)展一系列電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化 (EDA) 早期設(shè)計(jì)驗(yàn)證功能，可將物理和電路驗(yàn)證任務(wù)“左移”， 在設(shè)計(jì)和驗(yàn)證流程的早期階段即能識別、分析并解決復(fù)雜的 IC 和芯片級系統(tǒng) (SoC) 物理驗(yàn)證問題，進(jìn)而幫助 IC 設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)和公司加快流片速度。

在設(shè)計(jì)周期內(nèi)更早地識別和解決問題，不僅有助于壓縮整個(gè)驗(yàn)證周期，而且還能創(chuàng)造更多的時(shí)間和機(jī)會來提高最終的設(shè)計(jì)質(zhì)量。西門子使用認(rèn)證的簽核 (signoff) 標(biāo)準(zhǔn)，為早期階段的分析、驗(yàn)證和優(yōu)化策略提供經(jīng)調(diào)整的檢查支持，助力設(shè)計(jì)公司簡化設(shè)計(jì)流程，提高設(shè)計(jì)人員的效率，并縮短產(chǎn)品上市時(shí)間。

西門子 EDA Calibre 設(shè)計(jì)解決方案產(chǎn)品管理副總裁 Michael Buehler-Garcia 表示：“要延續(xù)在 EDA 領(lǐng)域的技術(shù)領(lǐng)先地位，就必須深入了解客戶在日常工作中面臨的特定挑戰(zhàn)，并在這些挑戰(zhàn)的驅(qū)動(dòng)下持續(xù)改進(jìn)。通過在 Calibre 中添加早期設(shè)計(jì)驗(yàn)證功能，我們的客戶無論處于哪一個(gè)設(shè)計(jì)階段，都可以借勢新技術(shù)，向市場快速推出高質(zhì)量的芯片產(chǎn)品?！?

Calibre 平臺的新功能包括：

Calibre RealTime Custom 和 Calibre RealTime Digital 軟件工具。這些工具可為定制、模擬/混合信號和數(shù)字設(shè)計(jì)提供在線的、簽核級質(zhì)量的 Calibre DRC。Calibre RealTime 接口可直接調(diào)用 Calibre 分析引擎，運(yùn)行經(jīng)代工廠認(rèn)證的簽核 Calibre 規(guī)則集，針對設(shè)計(jì)違規(guī)提供即時(shí)反饋和合規(guī)建議，幫助加快設(shè)計(jì)速度，提高結(jié)果質(zhì)量。Calibre RealTime Digital 現(xiàn)可利用 Calibre Yield Enhancer SmartFill 功能實(shí)現(xiàn)在線填充，讓設(shè)計(jì)人員能夠從設(shè)計(jì)平臺內(nèi)部直接獲取代工廠簽核質(zhì)量的填充，Calibre RealTime Custom 則增加了在多個(gè)區(qū)域內(nèi)自動(dòng)跟蹤 DRC 的功能，能夠同時(shí)對多項(xiàng)編輯進(jìn)行修復(fù)、跟蹤和檢查。  

Calibre RealTime Digital 中的 Calibre nmDRC-Recon 模型可橫跨模塊、宏模塊和全芯片版圖，對尚未成熟和未完整的設(shè)計(jì)進(jìn)行智能化、自動(dòng)化分析，在設(shè)計(jì)和驗(yàn)證流程的早期階段發(fā)現(xiàn)并修復(fù)具有重大影響的物理布局。除了 Calibre nmDRC-Recon 模型已經(jīng)具備的速度優(yōu)勢和設(shè)計(jì)人員的調(diào)試優(yōu)勢，西門子現(xiàn)為其添加了能靈活將未成熟的單元和模塊“灰盒” (gray-box) 的功能，同時(shí)仍對連接相鄰模塊或更高層金屬的接口進(jìn)行 DRC 檢查。 “灰盒”功能可以避開不相關(guān)的 DRC，從而進(jìn)一步提高執(zhí)行速度和設(shè)計(jì)人員的調(diào)試效率，與僅使用 nmDRC-Recon 相比，可將運(yùn)行速度提高多達(dá) 50%。

Calibre nmLVS-Recon 軟件可以為尚未成熟和未完整的設(shè)計(jì)進(jìn)行智能化、自動(dòng)化的電路驗(yàn)證分析。借助 Calibre nmLVS-Recon 軟件，設(shè)計(jì)人員能夠高效地執(zhí)行短路抽離 (Short Isolation) 以找到電路錯(cuò)誤。Calibre nmLVS-Recon 中的短路抽離模式無需對設(shè)計(jì)輸入或代工廠規(guī)則集進(jìn)行更改，可僅執(zhí)行 Calibre nmLVS 的短路抽離步驟，LVS 執(zhí)行速度可提高多達(dá) 30 倍，讓設(shè)計(jì)人員能夠在一天內(nèi)完成多次迭代驗(yàn)證。

Calibre nmPlatform 工具套件在 EDA 業(yè)界獨(dú)樹一幟，其集成了各種主要的 IC 設(shè)計(jì)和版圖實(shí)現(xiàn)工具。這種無縫集成讓設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)能夠輕松地從其定制設(shè)計(jì)或布局布線 (P&R) 設(shè)計(jì)環(huán)境中對知識產(chǎn)權(quán)模塊 (IP)、功能模塊/宏模塊、全芯片層面運(yùn)行 Calibre 工具。此外，Calibre 平臺還提供獨(dú)特的查看和調(diào)試功能，可加快各個(gè)設(shè)計(jì)階段的速度。

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