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風(fēng)陵渡口話EMC
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01、問(wèn)題現(xiàn)象描述

某電力電子自動(dòng)化控制公司生產(chǎn)制造的智能電力控制設(shè)備,依據(jù)GB/T17626.4的標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行電快速瞬變脈沖群抗擾度試驗(yàn)時(shí),出現(xiàn)網(wǎng)絡(luò)數(shù)據(jù)傳輸中斷錯(cuò)誤,具體現(xiàn)象如下:

圖1:網(wǎng)絡(luò)數(shù)據(jù)中斷測(cè)試圖示

客戶花費(fèi)大量時(shí)間進(jìn)行分析調(diào)試,仍然無(wú)法解決問(wèn)題,委托我司進(jìn)行整改,客戶具體測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)要求如下表所示:(網(wǎng)絡(luò)數(shù)據(jù)傳輸錯(cuò)誤是無(wú)法接受問(wèn)題)

圖2:客戶測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)要求

收到客戶郵寄的樣機(jī),在客戶配合指導(dǎo)的前提下,搭建起測(cè)試平臺(tái),進(jìn)行問(wèn)題確認(rèn)。確認(rèn)從電源端口注入EFT干擾,則不會(huì)出現(xiàn)網(wǎng)絡(luò)數(shù)據(jù)中斷錯(cuò)誤的問(wèn)題;而從信號(hào)端口注入EFT干擾,則會(huì)出現(xiàn)網(wǎng)絡(luò)數(shù)據(jù)傳輸中斷錯(cuò)誤的問(wèn)題,同客戶端測(cè)試結(jié)果基本吻合,排除試驗(yàn)場(chǎng)地、測(cè)試設(shè)備、試驗(yàn)環(huán)境的差異。  

 

圖3:產(chǎn)品形態(tài)圖

02、問(wèn)題現(xiàn)象分析

EFT干擾測(cè)試其實(shí)質(zhì)是共模噪聲注入測(cè)試,干擾主要表現(xiàn)形式是共模噪聲電流泄放過(guò)程形成的空間場(chǎng)輻射耦合,共模噪聲在參考地平面流動(dòng)時(shí)產(chǎn)生的地電位差,而形成的電場(chǎng)耦合,以及高頻噪聲電流環(huán)路形成的環(huán)路感應(yīng)耦合。

圖4:EFT噪聲注入端口

根據(jù)EFT注入干擾的特征,在注入端口線纜上增加不同規(guī)格材質(zhì)的磁環(huán),無(wú)明顯改善基本排除共模電流磁場(chǎng)耦合問(wèn)題;EFT噪聲注入的接地端子移除,衰減EFT噪聲電流改善非常明顯,注入信號(hào)端口對(duì)PE地增加1000pF濾波電容,問(wèn)題改善非常明顯。

圖5:EFT噪聲注入接地端子位置

圖6:EFT噪聲注入端口對(duì)PE地增加1000pF電容

信號(hào)端口增加不同規(guī)格的磁環(huán),無(wú)明顯改善,則說(shuō)明不是共模電流的磁場(chǎng)輻射耦合;在EFT噪聲注入端口增加1000pF電容對(duì)參考地,改善非常明顯,說(shuō)明干擾的主要形式是以電場(chǎng)輻射的方式耦合;考慮到在注入信號(hào)端口增加電容,實(shí)際生產(chǎn)作業(yè)過(guò)程中很難實(shí)現(xiàn),對(duì)策可行性較低。

圖6:EFT噪聲注入接地端子浮空衰減共模電流

移除EFT測(cè)試時(shí)接地端子,降低共模電流可以解決,初步分析判斷接地端子附近存在敏感信號(hào),拆機(jī)分析時(shí)發(fā)現(xiàn)系統(tǒng)主控芯片靠近接地端子處,存在電場(chǎng)耦合的風(fēng)險(xiǎn)。    

圖7:EFT噪聲注入接地端子附近是主控芯片

主控芯片屬于敏感電路,容易耦合外部電場(chǎng)干擾,出現(xiàn)網(wǎng)絡(luò)數(shù)據(jù)傳輸中斷問(wèn)題,電場(chǎng)耦合可以通過(guò)增加屏蔽罩進(jìn)行電場(chǎng)隔離,EFT測(cè)試結(jié)果PASS,網(wǎng)絡(luò)傳輸中斷的問(wèn)題消失,也可以將主控芯片移離EFT噪聲注入接地端子,減小空間電場(chǎng)耦合。

圖8:主控芯片增加金屬屏蔽罩隔離電場(chǎng)耦合

03、問(wèn)題產(chǎn)生根因分析

通過(guò)分析試驗(yàn)驗(yàn)證,問(wèn)題產(chǎn)生的根因分析如下:    

 EFT干擾注入在信號(hào)線與PE參考地之間形成高頻電位差,存在較強(qiáng)的高頻電場(chǎng)輻射,而控制板的主芯片就處于電場(chǎng)輻射的范圍。在信號(hào)線增加對(duì)地1000pF Y電容,其本質(zhì)就是降低信號(hào)線在EFT干擾注入時(shí)的電位差,其實(shí)質(zhì)就是降低電場(chǎng)輻射,芯片受到的電場(chǎng)輻射噪聲也隨之變小。改變PE地接地位置,信號(hào)線對(duì)PE地的電場(chǎng)輻射位置也隨之改變,芯片不在電場(chǎng)輻射的范圍內(nèi),或者說(shuō)芯片受到的電場(chǎng)輻射噪聲是在芯片的承受范圍,芯片工作狀態(tài)未到任何影響。

圖9:EFT干擾耦合機(jī)理示意圖

圖10:移動(dòng)接地端子后EFT干擾耦合機(jī)理示意圖

 產(chǎn)品抗EFT干擾注入測(cè)試,其本質(zhì)上是共模干擾注入測(cè)試,雖然干擾頻率相對(duì)來(lái)說(shuō)較低(5KHz/100KHz);但其上升沿非常陡峭(方波),其高次諧波非常豐富(高頻電場(chǎng))。高頻電壓產(chǎn)生的電場(chǎng)很容易與周?chē)舾须娐?、敏感元件產(chǎn)生感應(yīng)騷擾電壓,尤其是敏感元件(例如:控制芯片或者芯片散熱片)之間發(fā)生的容性耦合,耦合噪聲超過(guò)芯片干擾容限時(shí)引起其誤動(dòng)作。此產(chǎn)品控制芯片靠近EFT測(cè)試地線時(shí),注入信號(hào)與參考地(通常為PE)之間形成的分布電場(chǎng),干擾到控制芯片引起工作狀態(tài)異常。

04、問(wèn)題解決方案

通過(guò)分析驗(yàn)證,擬定問(wèn)題的解決方案如下:

問(wèn)題解決方案(一):

主控芯片增加金屬屏蔽罩,進(jìn)行電場(chǎng)屏蔽,減小EFT注入時(shí)電場(chǎng)噪聲與控制芯片之間的容性耦合。

圖11:主控芯片增加金屬屏蔽罩

問(wèn)題解決方案(二)

修改PCB Layout設(shè)計(jì),將控制芯片由底層改為頂層,通過(guò)PCB板本身的金屬層形成電場(chǎng)屏蔽,解決與注入地線(PE地線)之間的容性耦合問(wèn)題。

圖12:主控芯片由底層調(diào)整到頂層

以上兩種方案均可以有效解決電快速脈沖群(EFT)測(cè)試時(shí),網(wǎng)絡(luò)數(shù)據(jù)傳輸中斷問(wèn)題,綜合考慮項(xiàng)目改動(dòng)的影響及項(xiàng)目進(jìn)度影響,采用問(wèn)題解決(一)。

05、案例思考與啟示

系統(tǒng)主控芯片通常是輻射發(fā)射問(wèn)題的噪聲源頭,同時(shí)也是抗擾度敏感的源頭,外部的干擾噪聲注入形成的空間場(chǎng)干擾,則會(huì)在芯片內(nèi)部產(chǎn)生感應(yīng)電動(dòng)勢(shì)或者感應(yīng)電流,當(dāng)超過(guò)的噪聲容限值,就容易導(dǎo)致主控芯片工作狀態(tài)異常。不同芯片敏感度不同,敏感點(diǎn)也不同,尤其增加金屬散熱片且散熱片本身浮空,不接地的情況下,更容易感應(yīng)電場(chǎng)噪聲。

EMS抗擾度測(cè)試的干擾機(jī)理:主要是地電位波動(dòng)引起的信號(hào)傳輸電平錯(cuò)誤,二是干擾的注入端口的空間磁場(chǎng)輻射與電場(chǎng)輻射,磁場(chǎng)輻射在敏感環(huán)路中容易感應(yīng)噪聲電流與噪聲電壓,電場(chǎng)輻射容易在敏感環(huán)路或者器件感應(yīng)噪聲電壓。  

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  • 盧浮宮的盧 2024-11-02 14:34
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