
承前:電容設計問題的第一部分,我們從電源不是必須從濾波電容進入芯片管腳開始講起,帶出了電源供電網(wǎng)絡(PDN)的阻抗。并從頻域角度解釋了濾波電容只是整個電源供電網(wǎng)絡的一個組成部分。在文章結束之后,網(wǎng)友們提出的問題以及討論,就帶出了濾波電容的位置問題。
本節(jié):從去耦半徑出發(fā),通過去耦半徑的計算,讓大家直觀的看到我們常見的電容的“有效范圍”問題。
啟后:討論濾波電容的位置與PDN阻抗的關系,提出“全局電容”與“局部電容”的概念。能看到當電容呈現(xiàn)“全局特性”的時候,電容的位置其實沒有想象中那么重要。
上一個話題結束的時候,很多網(wǎng)友提出電容的位置問題:“濾波電容有自己的濾波半徑,所以重點在于濾波電容正端與芯片電源引腳的距離”。這個互動實在是配合的太好了,高速先生和你握手哈。
傳統(tǒng)的說法,電容有其濾波半徑,低頻電容濾波半徑大,所以布局的時候可以放的稍微遠一些。并且常規(guī)來說,單純?yōu)V波作用的低頻電容不要扎堆布局,講究均勻擺放。而中高頻電容的濾波半徑較小,需要嚴格靠近芯片管腳放置,不能離得太遠,要不然電容就“不起作用”了。
這個說法,作為我們?yōu)V波電容布局的設計指導,沒有問題,依舊是正確的指導原則,這個不是我們要討論的設計誤區(qū)。不過開場白里面說了,高速先生,就是要追根究底,看看電容的濾波半徑到底是怎么回事?
首先,濾波半徑還是基于著名的四分之一波長理論。(四分之一波長理論在高速先生的各種文章會反復多次出現(xiàn),為了方便大家理解,我們會專題討論各種四分之一波長的問題,這里就不再贅述,如果覺得理解這篇文章有問題,可以單獨和高速先生進行討論)電容去耦半徑理論認為,當電容的位置距需要濾波的器件(管腳)的距離剛好是四分之一波長的時候,電容的補償電流和信號噪聲電流相位剛好相差180度,濾波失效。所以為了保證電容的濾波作用,要求電容的位置距需要濾波的器件(管腳)的距離小于1/10的四分之一波長,當然,更嚴格的要求希望小于1/20的四分之一波長。
大家看到這,估計有點煩躁了,有的人說,這個我早就知道了。也有人說,不是叫“看得懂的高速設計”嗎,你說的這些我看不懂。那我們就來看看常見的濾波電容的濾波半徑。(這里我們?yōu)榱擞嬎愕暮喕?,假設電容的ESL為0.4NH,電容的安裝電感為1.5NH。具體的電容安裝電感問題,在上一個專題的第四篇文章里面討論過了,大家可以參考)看到這里,估計很多PCB設計師會大吃一驚?我們常用的0.1 uf電容,在考慮四十分之一波長的時候,電容的有效去耦半徑居然有12英寸。就算嚴格點考慮兩百分之一波長,也有將近2英寸的去耦半徑。我們在濾波電容布局的時候,這個去耦半徑還是問題嗎?
前面的文章討論過,由于去耦電容只是電源供電網(wǎng)絡的一部分,同時高頻噪聲會更加依賴電源地平板電容及封裝內(nèi)的濾波電容甚至是Die電容來濾除。10Nf或者更小的1Nf電容,在電源濾波系統(tǒng)中的作用會越來越小。在大部分的設計中,0.1 uf電容就是板級系統(tǒng)設計的時候,電源濾波系統(tǒng)中用到的最“高頻”的電容了。
借這個機會,再和大家討論下高速先生討論PCB設計誤區(qū)的出發(fā)點:很多理論其實沒有錯,只是我們在使用的時候沒有真正知其所以然,所以設計中想當然的“過設計”很多。這類“過設計”有時候并沒有壞處,只是當設計出現(xiàn)“惡劣”情況并需要“取舍”的時候,會造成一些困難。
比如電容的去耦半徑問題,大家都有這個概念,然后都知道“小”電容(高頻電容)的去耦半徑很小,需要嚴格靠近芯片管腳。這個設計原則沒有錯誤,只是當數(shù)碼消費類產(chǎn)品由于更小的面積,更低的成本以及結構的要求(如厚度),需要我們把電容單面布局,放在和BGA的同一面的時候,很多人困惑了,電容離芯片的電源管腳這么遠(有時還要考慮3mm或者5mm的返修間距,就更遠了),電容還能起作用嗎?
由此引申的另一個問題,和我們的這次的主題相關,先提前預告一下:我們做設計的時候,很喜歡把同種類的數(shù)字電源,對不同芯片進行供電的時候,用磁珠隔離一下,希望能避免不同芯片之間同種電源的干擾。電容的作用范圍這么大,磁珠隔離了“想象中”的芯片間電源軌道的干擾的同時,會不會也阻礙了電容的作用呢?
本節(jié)的結尾,再給大家看一個圖片,也是關于電容的去耦半徑和作用范圍的。之前討論的諧振頻率的四分之一波長,還是有局限性的,首先電容起作用的最高頻率不止是諧振頻率。其次,作用范圍還得考慮你設定的濾波效率。理論是復雜的,任重而道遠,多前進一些,真相就更清晰一點。
當然,本節(jié)的結論還是繼續(xù)有效的,我們常用的0.1uf電容,濾波半徑遠遠比我們想象的要大。
本節(jié)的問題是:
既然簡單的用四分之一波長理論推算的電容去耦半徑,對電容布局設計起不到指導作用,那么電容放置的離芯片電源管腳比較遠,還會有哪些影響呢?
承前:從去耦半徑出發(fā),通過去耦半徑的計算,讓大家直觀的看到我們常見的電容的“有效范圍”問題。
本節(jié):討論濾波電容的位置與PDN阻抗的關系,提出“全局電容”與“局部電容”的概念。能看到當電容呈現(xiàn)“全局特性”的時候,電容的位置其實沒有想象中那么重要。
啟后:多層板設計的時候,電容傾向于呈現(xiàn)“全局特性”,“電源加磁珠”的設計方法,會影響電容在全局范圍內(nèi)起作用。同時電源種類太多,還會帶來其他設計問題。
通過上一篇文章,我們知道平?!岸炷茉敗钡碾娙萑ヱ畎霃嚼碚?,對PCB設計其實沒有什么指導意義。0.1uf的電容去耦半徑足夠大,設計中參考這個值沒有用處,工程師還是會“盡量”把0.1uf電容靠近芯片的電源管教放置。PCB設計師需要更有效的理論來指導電容的布局設計。
既然簡單的用四分之一波長理論推算的電容去耦半徑不起作用,那么電容放置得離芯片電源管腳比較遠,還會有哪些影響呢?很多人都答對了,影響安裝電感。
在上一個專題的第四篇文章里面,已經(jīng)討論過電容安裝電感的估算。這一次,我們來更詳細的看看安裝電感。從圖3能看到,安裝電感可以簡單分為L above和 L below。
在這里引入兩個概念:Labove 、Lbelow(電容和IC下面的電流回路大小不一定一樣,但在這里分析的時候,假定大小等同)
總電感:LTotal= 2Labove+Lbelow
Labove包括電容的ESL和Fan out帶來的電感,我們會另外專題討論電容的Fan out問題。至于L below就更多收到電容位置的影響。簡單來說,電容離芯片電源管腳越遠,L below圍成的面積就越大,相應的安裝電感就越大。
更具體點,Lbelow主要是兩個過孔的自感和互感,當電容的位置離IC器件更近時,如圖4所示,Lbelow的互感增大,因互感的作用與自感的作用相反,導致其整體電感減小,充放電速率更快
可以列出一堆公式來推導這個互感乃至L below,但這個不是高速先生的風格。
其實從圖3可以簡單看出,G和P之間的距離對L below影響很大,G和P之間的距離越近,L below對應的陰影區(qū)域面積就越小。而L below越小,也就意味這電容可以放得越遠,換句話說,電容的有效濾波范圍更大。電容也就更加傾向于呈現(xiàn)“全局”特性。
下一節(jié)我們還會通過一個直觀的仿真,讓大家看到平面距離與安裝電感的關系,以及為什么說在新的設計條件下,電容會呈現(xiàn)全局特性。
圖5是一個簡單的總結,更具體的分析,請聽下回分解。
本次的問題是:
“濫用”磁珠,會帶來哪些壞處?什么情況下我們需要使用磁珠對電源進行隔離?什么情況下,“濫用”磁珠會帶來負面影響?
承前:討論濾波電容的位置與PDN阻抗的關系,提出“全局電容”與“局部電容”的概念。能看到當電容呈現(xiàn)“全局特性”的時候,電容的位置其實沒有想象中那么重要。
本節(jié):多層板設計的時候,電容傾向于呈現(xiàn)“全局特性”,“電源加磁珠”的設計方法,會影響電容在全局范圍內(nèi)起作用。同時電源種類太多,還會帶來其他設計問題。
通過上一篇文章,我們知道電容在不同的使用條件,會呈現(xiàn)“全局特性”與“局部特性”。
避免研究公式的繁瑣,我們來看看實際仿真結果。為了便于研究,設計了一個仿真案例,如圖6所示:Case1是電容放在芯片管腳附近,Case1b是電容遠離芯片管腳放置。這時候Case1b比Case1多出一對電源地過孔,為了同等條件下只比較電容的位置影響,我們增加Case1a案例,在和Case1b電容Fan out同樣的位置上增加一對電源地過孔。
圖6的4、5兩層為電源地耦合的平面。先來看看電源地距離為3mil時的情況:當電源地緊耦合時,a和b兩個Case的PDN曲線基本重合,說明電容的諧振頻率沒有變化。也就是說,電容位置好像幾乎沒有任何影響,反而是Case1的諧振頻率偏向于低頻,說明Case1的安裝電感反而更大一些。這個容易理解,主要是多出來的一對電源地過孔導致的。
電源地距離在10mil以內(nèi)時,以上結論都類似。但是當電源地距離在20mil甚至50mil時,情況稍有變化。如圖8所示,電源地距離變大時,a和b兩個Case的PDN曲線開始偏離,Case1b的諧振頻率向低頻偏移,說明電容遠離芯片管腳的時候,電容的安裝電感明顯變大。
所以,我們可以得出簡單的結論:
典型的8層以上單板,或者6層板采用3個電源地平面,電源地相對緊耦合的設計,這時候板上的濾波電容呈現(xiàn)“全局特性”,也就是說電容的位置不是很“重要”,電容在全局起作用。雙面板四層板,以及6層板電源地距離比較遠,相對松耦合的時候,板上的濾波電容傾向于“局部特性”,電容的位置比較重要,最好能靠近芯片管腳放置。
當電源供電網(wǎng)絡不使用電源地平面來設計的時候,電容更傾向于“局部特性”。如PLL電源的電容,如DDR3設計中Vref電源的電容,都希望嚴格把相應的電容靠近芯片的管腳,甚至最好能做到設計時指定電源必須從濾波電容進入芯片管腳。
同樣的,對于常規(guī)數(shù)字電源,如3.3V,2.5V等IO電源,如果我們對每一個芯片都使用磁珠隔離之后單獨供電,那么電容就失去了“全局”作用。最直接的一個負面作用就是導致設計需要增加更多的濾波電容?;蛘吣硞€芯片的電容數(shù)量與種類不夠,導致電源軌道噪聲變大。
就算是電容的數(shù)量不是問題,電源噪聲可控,“濫用”磁珠還會造成其他設計問題。圖9中的方案三是現(xiàn)在非常流行的12層板層疊設計。大家選擇這樣的層疊最主要的原因就是電源的分割太破碎,這樣的電源層如果作為參考平面的話,會比較難避免“跨分割”問題(單面跨電源分割問題,我們會另外有專題討論)。方案三的層疊避免了電源分割多的問題,卻帶來更加惡劣的層間串擾等其他問題。
電源種類多是設計的現(xiàn)狀,“濫用”磁珠會“雪上加霜”的讓電源種類更多。加大電源地平面設計的難度。而增加的磁珠,其實并沒有給電源噪聲帶來好處。
總結:常規(guī)的數(shù)字電源,在采用多層板設計,電源地平面緊耦合的情況下,不建議“濫用”磁珠,保持電容的“全局”特性起作用。
需要使用磁珠的場合大致分為兩種
1、“特別”保護自己,如PLL電源等
2、“關愛”他人,自身的干擾性比較強,避免EMI問題,如強驅(qū)動的時鐘芯片等
每次一個話題結束的時候,總覺得沒什么問題可以問,因為覺得都講清楚了。不過每次編輯都會強調(diào)“你的問題”呢?那就找一個問題,作為下一個話題的鋪墊吧:
我們怎么減小上一篇文章中提到的L above?
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